<div dir="ltr"><div>Dear CP2K Uses/Developers,<br></div><div><br></div><div>The "How to" section of CP2K describes the use of the IC-QM/MM method for interfacial systems with the metal slab.</div><div>https://www.cp2k.org/howto:ic-qmmm</div><div>While the external potentila can be controled via the<table class="default" summary="keyword_description"><tbody><tr><td class="r"><big class="uctt">EXT_POTENTIAL</big><big class="tt"> {Real}</big><em> External potential applied to the metal electrode,</em></td></tr><tr><td class="l">I could not find any application papers that use this approach to do constant external potential simulations.<br>My question is if the IC-QM/MM method can be used for that purpose.<br>What I would like to study is the effect of external potential on induced structural changes in the ionic melt at the inteface with the metal electrode.<br><br>Thank you,<br><br>Slava<br>Vyacheslav Bryantsev <br></td><td class="r"><em></em><span style="font-size: small;"></span><br></td></tr></tbody></table>  </div></div>